プラズマ洗浄装置について

プラズマ洗浄装置とはプラズマを発生させ、分子と電子の物質にエネルギーを分ける装置です。

物質にはエネルギーを与え続けると分子と電子の2つに分かれる性質があり、この状態がプラズマ化した状態となります。プラズマ化した物体は不純物が外部から近付いてきた場合、引っ付く特性があります。この特性を生かす商品がプラズマ洗浄装置になり、基盤を作り上げる際、不純物を取り除く装置として使用します。電子機器の基盤には、洗浄作業という作業があり、この洗浄作業は、電子基板の表面を洗うことと、不純物を取り去ることを指します。

この洗浄作業を担う際、プラズマ洗浄装置を活用し、電子分解したプラズマを基盤に照射することで基盤は分子が剥離された状態となり、高い浸水状態となり、不純物を含まない水が基盤を覆い膜となります。この膜に覆われた状態から不純物のみがプラズマ照射機に付着するため、基盤は高い精度のサーキット基盤となるのです。逆に基盤内に不純物が入り込んだ場合、サーキット基盤の電力の通り道に不純物があることで正常に電力が流れず、不良な基盤となります。

このようにプラズマ洗浄装置は、不純物が入ってはならない精密機器類のメイン基板作成において使用される専用機器でプラズマが持つ特性を利用し、商品を加工するために使用します。不純物が混入することで商品としての精度が落ちるものに対して、使用することで商品としての精度を高めるためにプラズマ洗浄装置を使用します。

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