精密半導体に欠かせないプラズマ洗浄装置

プラズマ洗浄装置は、主に半導体工場で採用されているクリーナです。

半導体の敵ともいえる基板表面に付着した汚れ(有機物を処理するのに欠かせない装置であり、プラズマ特有の高い反応性を利用した処理を行います。このプラズマは個体・気体・液体に続く第4の状態であり、気体を構成する陽イオンと電子に分かれて運動する特性を持ちます。プラズマに含まれる分子は有機物に反応して気化することが知られており、洗浄剤を使わずとも基盤を綺麗にできます。

超精密な半導体基盤に有機物やホコリがついてしまうとスペック通りの性能を発揮できないだけでなく、不良品率も上昇してしまいます。プラズマ洗浄装置が普及するまでは、特殊な洗浄剤を用いて基盤を洗浄していましたが、液剤ならではの課題もありました。洗浄後に清潔な水をたくさん使ってすすいで乾燥させても、洗浄液の残りカスを完全には取り除けなかったのです。しかしプラズマ洗浄装置は、分子を用いて有機物を分解する洗浄剤フリーであり、同時に液体の入れない極めて狭く小さい場所に入り込み有機物を気化させます。このような特性は、45ナノプロセス(1mmの4500分の1)においても活躍します。プラズマ洗浄装置は、電子顕微鏡でしか見えない小さな世界の汚れをきれいに気化させ処理する光度なクリーニング技術を持ちます。半導体はパソコンやスマホから調理家電やテレビや車まで、あらゆるものに採用されており、年々進化しています。プラズマ洗浄装置は、まさに縁の下の力持ちといえる存在です。

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